# 半導体の未来を拓く「レジスト材料」の最前線：AndTechがKrF・ArF・EUV技術のオンラインセミナー開催

- 出典: fture-scope（https://future-scope.net/）
- URL: https://future-scope.net/2026/09/03/%e5%8d%8a%e5%b0%8e%e4%bd%93%e3%81%ae%e6%9c%aa%e6%9d%a5%e3%82%92%e6%8b%93%e3%81%8f%e3%80%8c%e3%83%ac%e3%82%b8%e3%82%b9%e3%83%88%e6%9d%90%e6%96%99%e3%80%8d%e3%81%ae%e6%9c%80%e5%89%8d%e7%b7%9a%ef%bc%9aan/
- カテゴリ: テックニュース
- 公開日: 2026-09-03
- 更新日: 2026-09-03

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## 半導体の微細化を支える「レジスト材料」とは？

現代社会に欠かせないスマートフォンやパソコン、AI（人工知能）を動かすデータセンター、自動運転車など、あらゆるデジタルデバイスの心臓部には半導体が使われています。この半導体を製造する上で、非常に重要な役割を担うのが「レジスト材料」です。

レジスト材料とは、光を当てることで化学変化を起こし、半導体の回路パターンを正確に転写するための感光性樹脂（光に反応する特殊なプラスチックのようなもの）のこと。まるで写真のフィルムのように、微細な回路の「型」を作るために使われます。

## 進化を続けるレジスト技術：KrFからEUVへ

半導体の性能は、回路の線幅がどれだけ細いかで決まります。線幅が細ければ細いほど、より多くの回路を小さなチップに詰め込むことができ、処理能力の高い高性能な半導体が作れるのです。

この微細化を可能にしてきたのが、レジスト材料と露光装置（光を当てて回路パターンを転写する装置）の進化です。過去にはKrF（クリプトンフッ素）やArF（アルゴンフッ素）といった光源が使われてきました。これらはそれぞれ異なる波長の光を使い、より微細なパターン形成を実現してきました。

そして現在、最先端の半導体製造で注目されているのがEUV（極端紫外線）です。EUVはさらに短い波長の光を使うことで、これまで不可能だった超微細な回路の形成を可能にし、次世代の高性能半導体開発を加速させています。本セミナーでは、これらの技術の変遷と、それぞれのレジスト材料の分子設計や合成方法、評価技術がどのように進化してきたかを学ぶことができます。

## セミナーで学べること、解決できる課題

本セミナーでは、レジスト材料の基礎知識から始まり、現在のレジスト材料が抱える問題点、そしてその分子設計方法や今後の開発方向性まで、体系的に理解を深めることができます。

具体的には、以下のような知識や技術課題の解決が期待されます。

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レジスト材料の基礎と問題点の把握

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効果的な分子設計方法

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今後の開発の方向性

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レジスト材料の評価方法と開発実例

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メタルレジスト、EB・EUV用レジスト材料といった最新技術

半導体産業に携わる研究者や技術者、あるいはこの分野に関心を持つ方々にとって、半導体技術の最先端に触れる貴重な機会となるでしょう。

## 開催概要

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**テーマ:** KrF・ArFを中心とした半導体用レジスト材料の設計・合成と評価技術

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**開催日時:** 2026年10月13日（火） 10:30-16:30

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**参加費:** 50,600円（税込） ※電子にて資料配布予定

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**形式:** Zoomによるライブ配信

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**詳細・お申し込み:** [https://andtech.co.jp/seminars/1f1a1168-d6c6-612c-a003-064fb9a95405](https://andtech.co.jp/seminars/1f1a1168-d6c6-612c-a003-064fb9a95405)

## 株式会社AndTechについて

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