半導体の微細化を支える「レジスト材料」とは？
現代社会に欠かせないスマートフォンやパソコン、AI（人工知能）を動かすデータセンター、自動運転車など、あらゆるデジタルデバイスの心臓部には半導体が使われています。この半導体を製造する上で、非常に重要な役割を担うのが「レジスト材料」です。
レジスト材料とは、光を当てることで化学変化を起こし、半導体の回路パターンを正確に転写するための感光性樹脂（光に反応する特殊なプラスチックのようなもの）のこと。まるで写真のフィルムのように、微細な回路の「型」を作るために使われます。
進化を続けるレジスト技術：KrFからEUVへ
半導体の性能は、回路の線幅がどれだけ細いかで決まります。線幅が細ければ細いほど、より多くの回路を小さなチップに詰め込むことができ、処理能力の高い高性能な半導体が作れるのです。
この微細化を可能にしてきたのが、レジスト材料と露光装置（光を当てて回路パターンを転写する装置）の進化です。過去にはKrF（クリプトンフッ素）やArF（アルゴンフッ素）といった光源が使われてきました。これらはそれぞれ異なる波長の光を使い、より微細なパターン形成を実現してきました。
そして現在、最先端の半導体製造で注目されているのがEUV（極端紫外線）です。EUVはさらに短い波長の光を使うことで、これまで不可能だった超微細な回路の形成を可能にし、次世代の高性能半導体開発を加速させています。本セミナーでは、これらの技術の変遷と、それぞれのレジスト材料の分子設計や合成方法、評価技術がどのように進化してきたかを学ぶことができます。
セミナーで学べること、解決できる課題
本セミナーでは、レジスト材料の基礎知識から始まり、現在のレジスト材料が抱える問題点、そしてその分子設計方法や今後の開発方向性まで、体系的に理解を深めることができます。
具体的には、以下のような知識や技術課題の解決が期待されます。
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レジスト材料の基礎と問題点の把握
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効果的な分子設計方法
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今後の開発の方向性
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レジスト材料の評価方法と開発実例
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メタルレジスト、EB・EUV用レジスト材料といった最新技術
半導体産業に携わる研究者や技術者、あるいはこの分野に関心を持つ方々にとって、半導体技術の最先端に触れる貴重な機会となるでしょう。
開催概要
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テーマ: KrF・ArFを中心とした半導体用レジスト材料の設計・合成と評価技術
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開催日時: 2026年10月13日（火） 10:30-16:30
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参加費: 50,600円（税込） ※電子にて資料配布予定
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形式: Zoomによるライブ配信
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詳細・お申し込み: https://andtech.co.jp/seminars/1f1a1168-d6c6-612c-a003-064fb9a95405
株式会社AndTechについて
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